陶瓷、半导体以及多层膜截面透射电镜试样的制样方法
发布日期:2012-07-21
浏览数:618
(1)块状样切成约0.3mm厚的均匀薄片; (2)均匀薄片用石蜡粘贴于超声波切割机样品座上的载玻片上; (3)用超声波切割机冲成Ф3mm 的圆片; (4)用金刚砂纸机械研磨到约100μm厚; (5)用磨坑仪在圆片中央部位磨成一个凹坑,凹坑深度约50~70μm,凹坑目的主要是为了减少后序离子减薄过程时间,以提高最终减薄效率; (6)将洁净的、已凹坑的Ф3mm 圆片小心放入离子减薄仪中,根据试样材料的特性,选择合适的离子减薄参数进行减薄;通常,一般陶瓷样品离子减薄时间需2~3天;整个过程约5天。 注意事项: (1)凹坑过程试样需要精确的对中,先粗磨后细磨抛光,磨轮负载要适中,否则试样易破碎; (2)凹坑完毕后,对凹坑仪的磨轮和转轴要清洗干净; (3)凹坑完毕的试样需放在丙酮中浸泡、清洗和凉干; (4)进行离子减薄的试样在装上样品台和从样品台取下这二过程,需要非常的小心和细致的动作,因为此时Ф3mm薄片试样的中心已非常薄,用力不均或过大,很容易导致试样破碎。 (5)需要很好的耐心,欲速则不达。